在使用鍍鉻添加劑時，若是要做內(nèi)孔鍍鉻，陽極長短對鉻鍍層均勻度會產(chǎn)生什么影響？有什么解決方法？

首先，陽極面積小于陰極面積時，容易出現(xiàn)一系列問題：陽極電流密度過高會快速鈍化，降低鉻鍍層的沉積速度；當陽極面積過小時，鍍鉻溶液內(nèi)的三價鉻容易過量，對鉻鍍層光澤造成影響；更困難的是內(nèi)孔鍍鉻后得到的鍍層表面很粗糙，磨削加工后便形成細小凹坑和剝落現(xiàn)象，影響鉻鍍層質(zhì)量。

在鍍鉻添加劑的應(yīng)用過程中，如果要獲得光澤均勻的鉻鍍層，那么就一定需要增大陽極面積，將內(nèi)孔進行精拋光，并使鍍液循環(huán)流動，這樣才可以獲得均勻、光澤、無顆粒的鉻鍍層，而且沉積速度也可以得到提高。

那么要怎么樣做才能增加陽極面積呢？作為鍍鉻添加劑廠商，比格萊的工程師建議可以在陽極上鉆孔或者開些矩形口，這樣操作之后，可以提高沉積速度（比不鉆孔或者開口的陽極要快）。

在內(nèi)陽極使用方面，坊間有采用錐形陽極來保障鍍層均勻性的做法。但是，比格萊工程師在服務(wù)電鍍廠客戶的過程中發(fā)現(xiàn)，如果鍍液能順利地循環(huán)流動，不采用錐形陽極。同樣可以獲得均勻厚鉻鍍層，之所以會這樣，與輔助陰極有很大關(guān)系。

對以上內(nèi)容有疑問？或想了解更多鍍鉻添加劑的生產(chǎn)應(yīng)用知識？

請隨時聯(lián)系我們